卓精艺

首页 常见问题

磁流变抛光技术的4大优点及3大关键技术卓精艺 2022.08.08

磁流变抛光大家应该都不陌生了,以前我们介绍过它的原理、设备、发展、起源等知识,今天我们继续来了解磁流变。

磁流变抛光技术具有4大优点:

1、能够获得高精度面形

2、能够得到低损伤的超光滑光学表面

3、加工效率高

4、对工件支撑方式和环境要求不高,鲁棒性强

磁流变抛光机加工碳化硅元件

-磁流变抛光机加工碳化硅元件-

磁流变抛光的3大关键技术:

1、高精度实现关键技术

采用高精度高稳定性花岗岩床身,具有最佳的精度和结构优化。

采用高刚性高动态性运动单元,实现驻留时间的精准实现。

2、高效率实现关键技术

具有工具快速互换单元,配备多规格系列抛光轮。

具有多参数综合优化控制的磁流变液循环系统,能够实现去除函数的高稳定性和高分辨率去除控制。

3、低损伤实现关键技术

具有工件自寻位系统,可实现工件的自动快速无损对刀。

具有不同系列磁流变抛光液,可实现不同材料的超光滑表面获取。

目前,磁流变抛光技术在国内外主流光学加工单位和研究机构中得到了广泛的使用,以满足高功率激光、光刻物镜、空间光学等系统中光学零件高精度、低损伤和高效率的加工要求。

卓精艺磁流变抛光机,可实现超光滑、超精密抛光,加工精度:纳米精度加工,RMS 1/100λ(λ=632.8nm);表面粗糙度:优于0.5nm RMS;可对石英、微晶、ULE、BK7、单晶硅、碳化硅、蓝宝石、硫化锌等材料,实现平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面加工。如果您对我们感兴趣,欢迎来电咨询!